X-ray structural analysis of an epitaxially grown Ag film/Si(111)$\sqrt{3} \times \sqrt{3} $-B substrate interface

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2018-07, Vol.57 (7), p.75701
Hauptverfasser: Yoshiike, Yusaku, Tajiri, Hiroo, Yamazaki, Shiro, Nakatsuji, Kan, Hirayama, Hiroyuki
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.57.075701