Highly selective SiO 2 etching over Si 3 N 4 using a cyclic process with BCl 3 and fluorocarbon gas chemistries

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2018-06, Vol.57 (6S2), p.6
Hauptverfasser:	Matsui, Miyako, Kuwahara, Kenichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!