Suppression of plasma-induced damage on GaN etched by a Cl 2 plasma at high temperatures

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2015-06, Vol.54 (6S2), p.6
Hauptverfasser:	Liu, Zecheng, Pan, Jialin, Kako, Takashi, Ishikawa, Kenji, Takeda, Keigo, Kondo, Hiroki, Oda, Osamu, Sekine, Makoto, Hori, Masaru
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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