Effect of Substrate Temperature on Surface Properties of Ge 2 Sb 2 Te 5 Film during Chemical Mechanical Polishing

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2012-11, Vol.51 (11R), p.111301
Hauptverfasser:	Shin, Dong-Hee, Lee, Dong-Hyun, Hwang, Eung-Rim, Hong, Kwon, Lim, Dae-Soon
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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