Removal of Gold Oxide by Low-Temperature Hydrogen Annealing for Microelectromechanical System Device Fabrication

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2012-06, Vol.51 (6R), p.66501
Hauptverfasser:	Sakata, Tomomi, Ishii, Hiromu, Nagase, Masao, Takagahara, Kazuhiko, Kuwabara, Kei, Ono, Kazuyoshi, Sato, Norio, Machida, Katsuyuki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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