Pulsed Electron Deposition of 50-nm-thick ZnO Film at Room Temperature

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2011-12, Vol.50 (12R), p.120209
Hauptverfasser: Rho, Jaehoon, Yu, Kwangnam, Jeong, Rok-Hwan, Park, J. H., Chung, J.-S., Choi, Eunjip
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.50.120209