Critical Dimension Measurement of an Extreme-Ultraviolet Mask Utilizing Coherent Extreme-Ultraviolet Scatterometry Microscope at NewSUBARU

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2011-06, Vol.50 (6S), p.6
Hauptverfasser: Harada, Tetsuo, Nakasuji, Masato, Tada, Masaki, Nagata, Yutaka, Watanabe, Takeo, Kinoshita, Hiroo
Format: Artikel
Sprache:eng ; jpn
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.50.06GB03