High Rate Reactive Sputter Deposition of TiO 2 Films for Photocatalyst and Dye-Sensitized Solar Cells

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2011-04, Vol.50 (4R), p.45802
Hauptverfasser: Sato, Yasushi, Hashimoto, Takahiro, Miyamura, Amica, Ohno, Singo, Oka, Nobuto, Suzuki, Koichi, Glöß, Daniel, Frach, Peter, Shigesato, Yuzo
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.50.045802