Backexposure Effect in Chemically Amplified Resist Process upon Exposure to Extreme Ultraviolet Radiation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Japanese Journal of Applied Physics 2011-01, Vol.50 (1R), p.16504
Hauptverfasser: Kozawa, Takahiro, Tagawa, Seiichi, Ohnishi, Ryuji, Endo, Takafumi, Sakamoto, Rikimaru
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0021-4922
1347-4065
DOI:10.7567/JJAP.50.016504