Hole mobility improvement in Cu 2 O thin films prepared by the mist CVD method

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2019-05, Vol.12 (5), p.55509
Hauptverfasser:	Ikenoue, Takumi, Kawai, Toshikazu, Wakashima, Ryo, Miyake, Masao, Hirato, Tetsuji
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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