Influence of residual stress on the determination of Young’s modulus for SiO 2 thin film by the surface acoustic waves

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2019-07, Vol.58 (SH), p.SHHG01
Hauptverfasser:	Qin, Huiquan, Xiao, Xia, Sui, Xiaole, Qi, Haiyang
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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