Molecular beam deposition of high-density InAs quantum dots on SiO x films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2019-06, Vol.58 (SD), p.SDDF07
Hauptverfasser:	Makaino, Akinori, Tanaka, Yuta, Yamaguchi, Koichi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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