Site-Specific Atomic and Electronic Structure Analysis of Epitaxial Silicon Oxynitride Thin Film on SiC(0001) by Photoelectron and Auger Electron Diffractions

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Journal of the Physical Society of Japan 2014-04, Vol.83 (4), p.44604
Hauptverfasser: Maejima, Naoyuki, Matsui, Fumihiko, Matsui, Hirosuke, Goto, Kentaro, Matsushita, Tomohiro, Tanaka, Satoru, Daimon, Hiroshi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:0031-9015
1347-4073
DOI:10.7566/JPSJ.83.044604