Fabrication Methodology for a Hermetic Sealing Device Using Low Temperature Intrinsic-Silicon/Glass Bonding

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:TRANSACTIONS OF THE JAPAN INSTITUTE OF ELECTRONICS PACKAGING 2015, Vol.8 (1), p.74-80
Hauptverfasser: Nomura, Kazuya, Okada, Akiko, Shoji, Shuichi, Ogashiwa, Toshinori, Mizuno, Jun
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1883-3365
1884-8028
DOI:10.5104/jiepeng.8.74