Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition of TiO 2 Thin Films for Highly Hydrophilic Performance

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Crystal structure theory and applications 2013, Vol.2 (1), p.1-7
Hauptverfasser: Yamauchi, Satoshi, Imai, Yoh
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2169-2491
2169-2505
DOI:10.4236/csta.2013.21001