Low Temperature Growth of Hydrogenated Silicon Prepared by PECVD from Argon Diluted Silane Plasma

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Crystal structure theory and applications 2012, Vol.1 (3), p.62-67
Hauptverfasser:	Amrani, Rachid, Abboud, Pascale, Chahed, Larbi, Cuminal, Yvan
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!