Impact of the Parameters for a Chemically-amplified Resist on theLine-edge-roughness by Using a Molecular-scale LithographySimulation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Korean Physical Society 2009-08, Vol.55 (2), p.675-680
Hauptverfasser:	Kim, Sang-Kon, Oh, Hye-Keun, Jung, Young-Dae, An, Ilsin
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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