$Dry Etching of Germanium by Using Inductively Coupled CF$_{4}$Plasma$

Dry Etching of Germanium by Using Inductively Coupled CF$_{4}$Plasma

Gespeichert in:

Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Korean Physical Society 2009-06, Vol.54 (6), p.2290-2296
Hauptverfasser:	Kim, T.S., Yang, H.Y., Kil, Y.H., Jeong, T.S., Kang, S., Shim, K.H.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!

Schreiben Sie den ersten Kommentar!