$Dry Etching of Germanium by Using Inductively Coupled CF$_{4}$Plasma$

Dry Etching of Germanium by Using Inductively Coupled CF$_{4}$Plasma

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of the Korean Physical Society 2009-06, Vol.54 (6), p.2290-2296
Hauptverfasser:	Kim, T.S., Yang, H.Y., Kil, Y.H., Jeong, T.S., Kang, S., Shim, K.H.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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