An Analytical Model for a Gate-Induced-Drain-Leakage Current in a Buried-Channel PMOSFET
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Veröffentlicht in: | Journal of the Korean Physical Society 2003-11, Vol.43 (5), p.863-867 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0374-4884 |
DOI: | 10.3938/jkps.43.863 |