Formation and Thermal Stability of Ti-Capped Co-silicide from Co-Ta Alloy Films on (100) Si and Polycrystalline Silicon

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Korean Physical Society 2002-04, Vol.40 (4), p.737
Hauptverfasser:	Min-Joo, Kim, Hyo-Jick, Choi, Dae-Hong, Ko, Ja-Hum, Ku, Siyoung, Choi, Kazuyuki, Fujihara, Cheol-Woong, Yang
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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