Deposition and Characterization of Ru Thin Films Prepared by Metallorganic Chemical Vapor Deposition
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Veröffentlicht in: | Journal of the Korean Physical Society 2000-12, Vol.37 (6), p.1040 |
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Hauptverfasser: | , , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0374-4884 |
DOI: | 10.3938/jkps.37.1040 |