Uniaxially oriented nickel aluminum superalloy films sputtered with in situ heating

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Applied physics express 2021-08, Vol.14 (8), p.87001
Hauptverfasser:	Tran, Phuoc Toan, Ngo, Hai Dang, Ngo, Thien Duc, Nagao, Tadaaki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Schlagworte:	Nickel aluminum superalloy Photothermal device Plasmonic film Thin-film growth
Online-Zugang:	Volltext
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