Atomic layer deposition of Y 2 O 3 thin films with a high growth per cycle by Ar multiple boost injection

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Japanese Journal of Applied Physics 2020-07, Vol.59 (SM), p.SMMB01
Hauptverfasser:	Song, Jinhan, Lin, Y., Hoshii, T., Wakabayashi, H., Tsutsui, K., Kakushima, K.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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