Plasma Technology for Poly-crystaline Silicon Thin Film Transister Manufacturing. Polycrystalline Silicon Film Growth by Ultrahigh-vacuum Sputtering System
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | SHINKU 2001, Vol.44 (6), p.578-582 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng ; jpn |
| Online-Zugang: | Volltext |
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