Plasma Technology for Poly-crystaline Silicon Thin Film Transister Manufacturing. Polycrystalline Silicon Film Growth by Ultrahigh-vacuum Sputtering System

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	SHINKU 2001, Vol.44 (6), p.578-582
1. Verfasser:	MISHIMA, Yasuyoshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng ; jpn
Online-Zugang:	Volltext
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