Processing Development and Surface Preparation Review. A Study of Reaction Products and Profile Evolution in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching of Poly-Si

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	SHINKU 1996, Vol.39 (11), p.584-597
Hauptverfasser:	BANJO, Toshinobu, ONO, Kouichi, TUDA, Mutumi, NISHIKAWA, Kazuyasu
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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