Measurements of Thickness and Sputtering Yields of Thin Films Using a SAW Device
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Veröffentlicht in: | SHINKU 1982/04/20, Vol.25(4), pp.249-252 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 0559-8516 1880-9413 |
DOI: | 10.3131/jvsj.25.249 |