Elektrodepolama ile Üretilen CoNi Alaşım İnce Film Kaplamaların Yapısal ve Manyetik Özellikleri Üzerine Ek Katkı Maddelerinin Etkisi

Metallerin ve alaşımların elektrodepolanması bir veya daha fazla organik veya inorganik ek katkı maddeleri içerebilir. Ek katkılar; depolanan ince film kaplamaların yüzey morfolojisine, tane büyüklüğüne ve kristal yapısına etki etmektedir. Bu çalışmada CoNi alaşım ince film kaplamalar, katkı madde o...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Gazi Üniversitesi Fen Bilimleri Dergisi 2019-09, Vol.7 (3), p.661-675
1. Verfasser: ÖZDEMİR, Rasim
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Beschreibung
Zusammenfassung:Metallerin ve alaşımların elektrodepolanması bir veya daha fazla organik veya inorganik ek katkı maddeleri içerebilir. Ek katkılar; depolanan ince film kaplamaların yüzey morfolojisine, tane büyüklüğüne ve kristal yapısına etki etmektedir. Bu çalışmada CoNi alaşım ince film kaplamalar, katkı madde olmadan ve ek katkı maddeleri (organik kumarin ve tiyoüre) kullanılarak elektrodepolamayla üretildi. Ek katkısız depolanan CoNi alaşım ince film kaplamanın; kristal yapısının yüzey merkezli kübik (fcc) ve kaplama içeriğindeki kobalt miktarının % 67.94 olduğu bulundu. Banyo kompozisyonuna, kumarin katıldığında film içeriğindeki kobaltın % 43.82’ye, tiyoüre katıldığında %34.33’e düştüğü ve her iki filmin amorf özellik gösterdiği belirlendi. Uygulanan manyetik alan, -75000 Oe ile +75000 Oe arasında değiştirilerek, manyetizasyon değerleri ölçüldü ve histerezis eğrileri elde edildi. Katkı maddelerinin alaşım film içerisindeki madde miktarına, kristal yapıya ve manyetik özelliklere büyük etki ettiği görüldü. Electrodeposition of metals and alloys may contain one or more organic or inorganic additives. Additives it affects the surface morphology, grainsize and crystal structure of the thin film coatings. In this study, CoNi alloy thin film coatings were produced by electrodeposition without additives and using additional additives (organic coumarin and thiourea). CoNi alloy thin film coating produced without additional additive; It was found that the crystal structure was face centered cubic (fcc) and the cobalt content of the coating was 67.94%. When coumarin was added to the bath composition, cobalt in the film content decreased to 43.82%, decreased to 34.33% when thiourea was added, and both films showed amorphous properties. The magnetic field applied was changed between -75000 Oe to +75000 Oe, magnetization values were measured and hysteresis curves were obtained. It was seen that the additives had a great effect on the amount of matter, crystal structure and magnetic properties in the alloy film.
ISSN:2147-9526
2147-9526
DOI:10.29109/gujsc.569110