Recent Progress and Applications of HfO 2 -Based Ferroelectric Memory

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Tsinghua science and technology 2023-04, Vol.28 (2), p.221-229
Hauptverfasser: Liu, Xiao, Geng, Xiangshun, Liu, Houfang, Shao, Minghao, Zhao, Ruiting, Yang, Yi, Ren, Tian-Ling
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1007-0214
1007-0214
DOI:10.26599/TST.2021.9010096