Tailored Glass Transition of ArF Resists for Resolution Enhancement at sub-50nm node

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 2005, Vol.18 (3), p.399-406
Hauptverfasser:	Takemoto, Ichiki, Fuji, Yusuke, Yoshida, Isao, Hashimoto, Kazuhiko, Miyagawa, Takayuki, Yamaguchi, Satoshi, Takahashi, Kenji, Konishi, Shinji, Lee, Youngjoon
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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