ArF Bi-layer Resist for sub-90nm L/S Fabrication

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 2003, Vol.16 (4), p.499-505
Hauptverfasser:	Kim, Hyun-Woo, Hong, J., Jung, Myung-Ho, Woo, Sang-Gyun, Cho, Han-Ku, Han, Woo-Sung
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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