Sensitized Transparent Photobase Additive For 193 nm Lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 2000, Vol.13 (4), p.617-624
Hauptverfasser:	Padmanaban, Munirathna, Bae, Jun-Born, Cook, Michelle, Kim, Woo-Kyu, Klauck-Jacobs, Axel, Kudo, Takanori, Rahman, M. Dalil, Dammel, Ralph R, Byers, Jeffrey D.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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