A sensitive positive resist for 0.1-.MU.m electron-beam direct-writing lithography

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 1997, Vol.10 (4), p.625-628
Hauptverfasser:	Arai, Tadashi, Sakamizu, Toshio, Katoh, Kohji, Hashimoto, Michiaki, Shiraishi, Hiroshi
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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