ArF Single Layer Resist Composed of Alicyclic Main Chain Containing Maleic Anhydride

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 1997, Vol.10 (4), p.529-533
Hauptverfasser:	Jung, Jae-Chang, Bok, Cheol-Kyu, Baik, Ki-Ho
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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