A Commercially Viable 193 nm Single Layer Resist Platform

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Journal of photopolymer science and technology 1997, Vol.10 (3), p.511-520
Hauptverfasser:	Houlihan, F.M., Wallow, T., Timko, A., Neria, E., Hutton, R., Cirelli, R., Kometani, J. M., Nalamasu, O., Reichmanis, E.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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