Anti-reflection coatings based on SnO2, SiO2, Si3N4 films for photodiodes operating in ultraviolet and visible spectral ranges
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| Veröffentlicht in: | Semiconductor physics, quantum electronics, and optoelectronics quantum electronics, and optoelectronics, 2011-09, Vol.14 (3), p.298-301 |
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| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng |
| Online-Zugang: | Volltext |
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