Anti-reflection coatings based on SnO2, SiO2, Si3N4 films for photodiodes operating in ultraviolet and visible spectral ranges

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Semiconductor physics, quantum electronics, and optoelectronics quantum electronics, and optoelectronics, 2011-09, Vol.14 (3), p.298-301
1. Verfasser: Dobrovolskiy, Yu. G.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1560-8034
1605-6582
DOI:10.15407/spqeo14.03.298