Formation of Layered Structure in Films of Nickel at Electrodeposition by a Pulse Current

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Metallofizika i noveĭshie tekhnologii 2019-02, Vol.41 (1), p.27-37
Hauptverfasser:	Shtapenko, E. P., Zabludovsky, V. O., Tytarenko, V. V., Kraeva, V. S., Afanasov, А. М.
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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