Development of a Nb Sputtering Method for the Coating of a Cu Cavity
We have developed a DC magnetron sputtering apparatus for the coating of Nb films on the inner surfaces of a 500 MHz Cu cavity. Q0 values at 4.2 K by pipe cooling have been determined in order to optimize the various coating processes. The Nb films can be sputtered successively after sputter-cleanin...
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| Veröffentlicht in: | Hyomen Kagaku 1994/04/20, Vol.15(3), pp.181-183 |
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| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | eng |
| Online-Zugang: | Volltext |
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