Si-nanowire-based multistage delayed Mach–Zehnder interferometer optical MUX/DeMUX fabricated by an ArF-immersion lithography process on a 300 mm SOI wafer

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Optics letters 2014-07, Vol.39 (13), p.3702
Hauptverfasser:	Jeong, Seok-Hwan, Shimura, Daisuke, Simoyama, Takasi, Horikawa, Tsuyoshi, Tanaka, Yu, Morito, Ken
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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