High quality factor 1-D Er^3+-activated dielectric microcavity fabricated by RF-sputtering
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Veröffentlicht in: | Optics express 2012-09, Vol.20 (19), p.21214 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1094-4087 1094-4087 |
DOI: | 10.1364/OE.20.021214 |