Damage accumulation in thin ruthenium films induced by repetitive exposure to femtosecond XUV pulses below the single-shot ablation threshold

Bibliographische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Journal of the Optical Society of America. B, Optical physics Optical physics, 2018-11, Vol.35 (11), p.2799
Hauptverfasser:	Makhotkin, Igor A., Milov, Igor, Chalupský, Jaromir, Tiedtke, Kai, Enkisch, Hartmut, de Vries, Gosse, Scholze, Frank, Siewert, Frank, Sturm, Jacobus M., Nikolaev, Konstantin V., van de Kruijs, Robbert W. E., Smithers, Mark A., van Wolferen, Henk A. G. M., Keim, Enrico G., Louis, Eric, Jacyna, Iwanna, Jurek, Marek, Klinger, Dorota, Pelka, Jerzy B., Juha, Libor, Hájková, Věra, Vozda, Vojtěch, Burian, Tomáš, Saksl, Karel, Faatz, Bart, Keitel, Barbara, Plönjes, Elke, Schreiber, Siegfried, Toleikis, Sven, Loch, Rolf, Hermann, Martin, Strobel, Sebastian, Donker, Rilpho, Mey, Tobias, Sobierajski, Ryszard
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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