Correlation between properties of HfO 2 films and preparing parameters by ion beam sputtering deposition
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Veröffentlicht in: | Applied optics (2004) 2014-02, Vol.53 (4), p.A405 |
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Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 1559-128X 2155-3165 |
DOI: | 10.1364/AO.53.00A405 |