Correlation between properties of HfO 2 films and preparing parameters by ion beam sputtering deposition

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Applied optics (2004) 2014-02, Vol.53 (4), p.A405
Hauptverfasser: Liu, Huasong, Jiang, Yugang, Wang, Lishuan, Leng, Jian, Sun, Peng, Zhuang, Kewen, Ji, Yiqin, Cheng, Xinbin, Jiao, Hongfei, Wang, Zhanshan, Wu, Bingjun
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:1559-128X
2155-3165
DOI:10.1364/AO.53.00A405