Effects of Plasma and Wet Processes on Si-Rich Anti-Reflective Coating to Address Selective Trilayer Rework for Sub-20nm Technology Nodes

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2013-10, Vol.MA2013-02 (30), p.2122-2122
Hauptverfasser:	Pollet, Olivier, Sommer, Romain, Lachal, Laurent, Barnola, Sebastien, De Buttet, Come, Richard, Claire, Jenny, Cecile
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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