Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2013-10, Vol.MA2013-02 (24), p.1887-1887
Hauptverfasser: Ozgit-Akgun, Cagla, Donmez, Inci, Biyikli, Necmi
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2013-02/24/1887