Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films
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Veröffentlicht in: | Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2013-10, Vol.MA2013-02 (24), p.1887-1887 |
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Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | eng |
Online-Zugang: | Volltext |
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ISSN: | 2151-2043 2151-2035 |
DOI: | 10.1149/MA2013-02/24/1887 |