(Invited) Doping Silicon Dielectrics with Silicon, Cerium and Oxygen Via Ion Implantation

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2013-03, Vol.MA2013-01 (18), p.793-793
Hauptverfasser:	Knights, A. P., Savidge, Rachel M., Halsall, Matthew P., Crowe, Iain Forbes
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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