A Novel Lightly Doping Technique for LDD Structure MILC Poly-Si TFTs Using Gate Insulator as a Doping Mask and the Effect of the LDD Structure on the TFTs

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2012-02, Vol.MA2012-01 (2), p.69-69
Hauptverfasser:	Son, Se-Wan, Byun, Chang-Woo, Lee, Sang-Joo, Yoon, Seung-Jae, Joo, Seung-Ki
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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