Effect of Substrate Temperature on the Magnetic Tunnel Junction Material Etching Using Inductively Coupled CH 3 OH Plasma

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2010-07, Vol.MA2010-02 (33), p.2027-2027
Hauptverfasser:	Lee, Minsuk, Cho, Sanghoon, Jung, Bokyong, Shin, Changhyup, Choi, Minki, Song, Giljoo, Roh, Jaesung, Park, Sungki, Lee, Won-Jong
Format:	Artikel
Sprache:	eng
Online-Zugang:	Volltext
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