Developing a Wafer Level Gold-Polysilicon Eutectic Bond Process to Protect Sensitive Electronic Devices

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Meeting abstracts (Electrochemical Society) 2010-07, Vol.MA2010-02 (27), p.1694-1694
Hauptverfasser: Saeidi, Nooshin, Flynn, Michael, Byun, Ki Yeol, Yu, Ran, Ferain, Isabelle, Colinge, C., Demosthenous, A., Donaldson, N.
Format: Artikel
Sprache:eng
Online-Zugang:Volltext
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Beschreibung
Zusammenfassung:
ISSN:2151-2043
2151-2035
DOI:10.1149/MA2010-02/27/1694